AMAT 0140-11365 HARNESS ASSY P2 CONN ESC MAG CURRNT FO

SG·胜游亚洲主营AMAT TEL LAM?Varian BROOKS MKS?SMC COMET VAT等品牌半导体设备，零件。

由于FAB设备的部件型号比较多，不能一 一列举，如果有其它型号的零部件需要，请随时联系SG·胜游亚洲。

联系电话:021-6838 8387

SG·胜游亚洲SG·胜游亚洲致力于为国内半导体制造企业提供快速高效的设备，部件，耗材和维修服务。

我们跟国内外多家设备制造商，经销商，零部件贸易商，晶圆厂，高校，研究所有长期的接触和联系，我们有能力保证品质并提供有竞争力的价格。

AMAT 0140-11365 HARNESS ASSY P2 CONN ESC MAG CURRNT FO

Centura?化学气相沉积(CVD)系统

核心功能

介电薄膜沉积（SiO?/Si?N?/低k介质）

多层堆叠工艺

低温成膜（最低200℃）

技术规格

关键工艺

栅极介电层沉积

EOT（等效氧化层厚度）＜1nm

漏电流＜1×10?? A/cm?

3D NAND应用

典型叠层结构：

- ON层（SiO?/Si?N?）

- 厚度均匀性±2%

- 应力控制＜200MPa

行业应用案例

▌英特尔Intel 4工艺

高k栅极介电层沉积

驱动电流提升22%

▌长江存储128层3D NAND

ON叠层沉积

晶圆级厚度偏差＜1.5%

AMAT 0140-11365 HARNESS ASSY P2 CONN ESC MAG CURRNT FO